Intel Foundry dépasse le million de wafers avec sa technologie EUV de nouvelle génération

Intel ↗ 1.71% Foundry et ASML ↗ 2.14% ont annoncé mardi une collaboration élargie afin d'accélérer la préparation de l'industrie pour la lithographie ultraviolette extrême à haute ouverture numérique (High NA EUV), la technologie de fabrication de puces de nouvelle génération jugée essentielle pour produire des processeurs d'IA de plus en plus complexes. L'action Intel a progressé de plus de 3% dans les échanges d'avant-Bourse à la suite de cette annonce.benzinga

Les deux entreprises ont révélé lors de la conférence SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography à Monterey, en Californie, qu'Intel Foundry a désormais traité plus d'un million de wafers à l'aide de la technologie High NA EUV, englobant la certification des outils, les tests, la recherche et développement, ainsi que la production en volume. Cette technologie est actuellement utilisée sur certaines couches des processeurs Intel Core Ultra Series 3, de nom de code Panther Lake, gravés avec le procédé Intel 18A. Intel a indiqué que les produits fabriqués avec la technologie High NA sur ces couches égalent ou dépassent les performances des couches comparables produites à l'aide de la plateforme NXE EUV existante d'ASML.finance.yahoo

Vers des masques plus grands

L'un des axes majeurs de cette collaboration est la transition vers des photomasques plus grands de 6×12 pouces, ce qui permettrait à la technologie High NA EUV de produire les puces de grande taille requises par l'IA et les centres de données. Les équipements EUV actuels peuvent fabriquer des puces d'une surface d'environ 800 millimètres carrés, une limite dont se rapprochent déjà les processeurs haut de gamme d'entreprises comme Nvidia. Intel Foundry soutient activement l'initiative du format de masque de grande taille depuis plus de trois ans, collaborant avec ASML, des fabricants de masques, des fournisseurs d'automatisation, des partenaires EDA et d'autres fabricants de semi-conducteurs pour développer les normes et l'infrastructure nécessaires.tradingkey+1

Le directeur de la technologie d'ASML, Marco Pieters, a déclaré que cette technologie de photomasques plus grands pourrait améliorer l'efficacité de la production High NA EUV d'environ 40%, avec une ligne de production pilote visée pour 2031 et une préparation à la production de masse d'ici 2033.tradingkey

« Intel Foundry a été l'un des principaux leaders de l'adoption de la technologie High NA par l'industrie, depuis l'installation du premier système commercial EXE en 2024 jusqu'à la qualification de la dernière génération d'outils, en passant par la livraison du premier produit logique à grand volume fabriqué avec la technologie High NA », a déclaré le PDG d'ASML, Christophe Fouquet.finance.yahoo

Positionnement stratégique

Le co-directeur général d'Intel Foundry, Naga Chandrasekaran, a présenté cet effort comme essentiel pour les ambitions de l'entreprise dans le domaine de la fonderie. « Les entreprises qui conçoivent les produits d'IA de plus en plus complexes de demain ont besoin d'innovations de fabrication prêtes pour la production et faciles à utiliser », a-t-il affirmé.finance.yahoo

Cette annonce intervient alors qu'Intel s'efforce d'attirer des clients externes pour sa fonderie. Le fondateur de KKM Financial, Jeff Kilburg, a récemment qualifié la levée de fonds élargie de 20 milliards de dollars d'Intel de décision stratégique, suggérant que l'entreprise pourrait être sur le point de remporter d'importants contrats de fonderie nécessitant des capacités de production supplémentaires.benzinga