Intel Foundry: Ξεπέρασε το 1 εκατομμύριο wafer με τη νέα γενιά τεχνολογίας EUV

Η Intel ↘ 1.02% Foundry και η ASML ↘ 0.19% ανακοίνωσαν την Τρίτη μια διευρυμένη συνεργασία με στόχο να επιταχύνουν την ετοιμότητα του κλάδου για τη λιθογραφία High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet (High NA EUV), την τεχνολογία κατασκευής μικροτσίπ επόμενης γενιάς που θεωρείται απαραίτητη για την παραγωγή ολοένα και πιο περίπλοκων επεξεργαστών τεχνητής νοημοσύνης (AI). Οι μετοχές της Intel σημείωσαν άνοδο άνω του 3% στις προσυνεδριακές συναλλαγές μετά την ανακοίνωση.benzinga

Οι δύο εταιρείες αποκάλυψαν στο συνέδριο SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography στο Μοντερέι της Καλιφόρνια, ότι η Intel Foundry έχει πλέον επεξεργαστεί περισσότερα από ένα εκατομμύριο wafer χρησιμοποιώντας High NA EUV σε στάδια πιστοποίησης εργαλείων, δοκιμών, έρευνας και ανάπτυξης, καθώς και μαζικής παραγωγής. Η τεχνολογία αυτή χρησιμοποιείται επί του παρόντος σε επιλεγμένα επίπεδα των επεξεργαστών Intel Core Ultra Series 3, με την κωδική ονομασία Panther Lake, οι οποίοι βασίζονται στη διαδικασία παραγωγής Intel 18A. Η Intel δήλωσε ότι τα προϊόντα που κατασκευάζονται με High NA σε αυτά τα επίπεδα ανταποκρίνονται ή και ξεπερνούν την απόδοση αντίστοιχων επιπέδων που παράγονται με την υπάρχουσα πλατφόρμα NXE EUV της ASML.finance.yahoo

Προς τη χρήση μεγαλύτερων φωτομασκών

Κεντρικό σημείο της συνεργασίας είναι η μετάβαση σε μεγαλύτερες φωτομάσκες διάστασης 6×12 ιντσών, οι οποίες θα επιτρέψουν στο High NA EUV να παράγει τα μεγάλα τσιπ που απαιτούνται για φόρτους εργασίας AI και κέντρων δεδομένων. Ο τρέχων εξοπλισμός EUV μπορεί να κατασκευάσει τσιπ με εμβαδόν περίπου 800 τετραγωνικών χιλιοστών, ένα όριο το οποίο ήδη πλησιάζουν οι κορυφαίοι επεξεργαστές εταιρειών όπως η Nvidia. Η Intel Foundry έχει αφιερώσει περισσότερα από τρία χρόνια υποστηρίζοντας την πρωτοβουλία για το μεγάλο μέγεθος μάσκας, συνεργαζόμενη με την ASML, κατασκευαστές μασκών, προμηθευτές αυτοματισμού, συνεργάτες EDA και άλλους κατασκευαστές ημιαγωγών για την ανάπτυξη των απαραίτητων προτύπων και υποδομών.tradingkey+1

Ο Τεχνικός Διευθυντής της ASML, Marco Pieters, δήλωσε ότι η τεχνολογία μεγαλύτερων φωτομασκών θα μπορούσε να αυξήσει την αποδοτικότητα παραγωγής του High NA EUV κατά περίπου 40%, με στόχο μια πιλοτική γραμμή παραγωγής γύρω στο 2031 και ετοιμότητα για μαζική παραγωγή έως το 2033.tradingkey

"Η Intel Foundry υπήρξε ένας από τους βασικούς ηγέτες στην υιοθέτηση του High NA από τη βιομηχανία, από την εγκατάσταση του πρώτου εμπορικού συστήματος EXE το 2024 και την πιστοποίηση της τελευταίας γενιάς εργαλείων, έως την αποστολή του πρώτου προϊόντος λογικής μαζικής παραγωγής που κατασκευάστηκε με High NA", δήλωσε ο Διευθύνων Σύμβουλος της ASML, Christophe Fouquet.finance.yahoo

Στρατηγική τοποθέτηση

Ο συν-γενικός διευθυντής της Intel Foundry, Naga Chandrasekaran, χαρακτήρισε την προσπάθεια αυτή ως απαραίτητη για τις φιλοδοξίες της εταιρείας στον τομέα των foundry. "Οι εταιρείες που κατασκευάζουν τα ολοένα και πιο περίπλοκα προϊόντα AI του μέλλοντος χρειάζονται κατασκευαστικές καινοτομίες που είναι έτοιμες για παραγωγή και εύκολες στη χρήση", δήλωσε.finance.yahoo

Η ανακοίνωση αυτή έρχεται σε μια περίοδο που η Intel προσπαθεί να προσελκύσει εξωτερικούς πελάτες για τις υπηρεσίες foundry της. Ο ιδρυτής της KKM Financial, Jeff Kilburg, χαρακτήρισε πρόσφατα τη διευρυμένη άντληση κεφαλαίων ύψους 20 δισεκατομμυρίων δολαρίων της Intel ως μια στρατηγική κίνηση, υποδηλώνοντας ότι η εταιρεία ενδέχεται να πλησιάζει σε σημαντικές συμφωνίες με μεγάλους πελάτες, οι οποίες απαιτούν πρόσθετη παραγωγική ικανότητα.benzinga