Newsletter Subscribe
Enter your email address below and subscribe to our newsletter
[forminator_form id="25163"]

finance.yahootradingkeybenzingaIntel Foundry ja ASML ilmoittivat tiistaina laajentavansa yhteistyötään nopeuttaakseen alan valmiutta High NA EUV -litografiaan (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet). Tätä uuden sukupolven sirunvalmistusteknologiaa pidetään välttämättömänä yhä monimutkaisempien tekoälysuorittimien valmistuksessa. Intelin osake nousi yli 3 % esikaupankäynnissä ilmoituksen jälkeen.benzinga
Yhtiöt kertoivat Kalifornian Montereyssa järjestetyssä SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography -konferenssissa, että Intel Foundry on nyt käsitellyt yli miljoona piikiekkoa High NA EUV -teknologialla laitesertifioinnissa, testauksessa, tutkimuksessa ja kehityksessä sekä volyymituotannossa. Teknologiaa käytetään tällä hetkellä Intel Core Ultra Series 3 -suorittimien (koodinimi Panther Lake) tietyissä kerroksissa, jotka valmistetaan Intel 18A -prosessisolmulla. Intelin mukaan näillä kerroksilla High NA -teknologialla valmistetut tuotteet vastaavat tai ylittävät suorituskyvyltään vastaavat kerrokset, jotka on tuotettu ASML:n nykyisellä NXE EUV -alustalla.finance.yahoo
Yhteistyön keskiössä on siirtyminen suurempiin 6×12 tuuman valomaskeihin, mikä mahdollistaisi High NA EUV -teknologian käytön tekoälyn ja datakeskusten vaatimien suurten sirujen valmistuksessa. Nykyisillä EUV-laitteilla voidaan valmistaa pinta-alaltaan noin 800 neliömillimetrin kokoisia siruja, ja esimerkiksi Nvidian kaltaisten yhtiöiden huippuluokan suorittimet lähestyvät jo tätä rajaa. Intel Foundry on edistänyt suuren maskiformaatin aloitetta yli kolmen vuoden ajan tehden yhteistyötä ASML:n, maskivalmistajien, automaatiotoimittajien, EDA-kumppaneiden ja muiden puolijohdevalmistajien kanssa tarvittavien standardien ja infrastruktuurin kehittämiseksi.tradingkey+1
ASML:n teknologiajohtaja Marco Pieters sanoi, että suurempi valomaskiteknologia voisi parantaa High NA EUV -tuotannon tehokkuutta noin 40 prosentilla. Pilottituotantolinja on tavoitteena noin vuonna 2031 ja valmius massatuotantoon vuonna 2033.tradingkey
"Intel Foundry on ollut yksi alan johtavista toimijoista High NA -teknologian käyttöönotossa aina ensimmäisen kaupallisen EXE-järjestelmän asentamisesta vuonna 2024 uusimman sukupolven laitteiden sertifiointiin ja ensimmäisen High NA -teknologialla valmistetun suuren volyymin logiikkatuotteen toimitukseen", sanoi ASML:n toimitusjohtaja Christophe Fouquet.finance.yahoo
Intel Foundryn toinen pääjohtaja Naga Chandrasekaran kuvaili hanketta välttämättömäksi yhtiön sopimusvalmistustavoitteille. "Yhtiöt, jotka rakentavat tulevaisuuden yhä monimutkaisempia tekoälytuotteita, tarvitsevat valmistusinnovaatioita, jotka ovat tuotantovalmiita ja helppokäyttöisiä", hän sanoi.finance.yahoo
Ilmoitus tulee hetkellä, jolloin Intel pyrkii houkuttelemaan ulkopuolisia sopimusvalmistusasiakkaita. KKM Financialin perustaja Jeff Kilburg kutsui hiljattain Intelin laajennettua 20 miljardin dollarin pääomanhankintaa strategiseksi siirroksi ja antoi ymmärtää, että yhtiö saattaa olla lähellä merkittäviä sopimusvalmistussopimuksia, jotka vaativat lisää valmistuskapasiteettia.benzinga