Intel Foundry knackt Millionen-Marke bei Wafern mit High-NA-EUV

Intel ↗ 5.49% Foundry und ASML ↗ 6.21% haben am Dienstag eine erweiterte Zusammenarbeit angekündigt. Ziel ist es, die Branche schneller auf die High-NA-EUV-Lithografie (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) vorzubereiten. Diese Chiptechnologie der nächsten Generation gilt als unverzichtbar für die Herstellung immer komplexerer KI-Prozessoren. Die Intel-Aktie legte nach der Ankündigung im vorbörslichen Handel um mehr als 3 Prozent zu.benzinga

Wie die Unternehmen auf der Konferenz „SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography“ im kalifornischen Monterey bekannt gaben, hat Intel Foundry mittlerweile mehr als eine Million Wafer mit High-NA-EUV verarbeitet: Dies umfasst die Anlagenzertifizierung, Tests, Forschung und Entwicklung sowie die Volumenproduktion. Die Technologie wird derzeit bei ausgewählten Schichten der Intel Core Ultra Series 3 Prozessoren (Codename Panther Lake) eingesetzt, die im Intel-18A-Verfahren gefertigt werden. Laut Intel erreichen oder übertreffen die mit High-NA hergestellten Schichten dieser Produkte die Leistung vergleichbarer Schichten, die mit der bestehenden NXE-EUV-Plattform von ASML produziert wurden.finance.yahoo

Trend zu größeren Masken

Ein Schwerpunkt der Zusammenarbeit liegt auf dem Übergang zu größeren Fotomasken im Format 6×12 Zoll. Diese sollen es ermöglichen, mit High-NA-EUV die großen Chips herzustellen, die für KI- und Rechenzentrumsanwendungen benötigt werden. Aktuelle EUV-Anlagen können Chips mit einer Fläche von rund 800 Quadratmillimetern fertigen: Eine Grenze, an die High-End-Prozessoren von Unternehmen wie Nvidia bereits herankommen. Intel Foundry setzt sich seit mehr als drei Jahren für die Initiative für größere Maskenformate ein und arbeitet mit ASML, Maskenherstellern, Automatisierungsanbietern, EDA-Partnern und anderen Halbleiterherstellern zusammen, um die erforderlichen Standards und Infrastrukturen zu entwickeln.tradingkey+1

Marco Pieters, Chief Technology Officer bei ASML, erklärte, dass die Technologie mit größeren Fotomasken die Produktionseffizienz von High-NA-EUV um etwa 40 Prozent steigern könnte. Eine Pilotproduktionslinie ist für etwa 2031 geplant, die Serienreife wird für 2033 angestrebt.tradingkey

„Intel Foundry gehört zu den treibenden Kräften bei der Einführung von High-NA in der Branche: Von der Installation des ersten kommerziellen EXE-Systems im Jahr 2024 über die Qualifizierung der neuesten Werkzeuggeneration bis hin zur Auslieferung des ersten in Serie gefertigten Logikprodukts mit High-NA“, sagte ASML-CEO Christophe Fouquet.finance.yahoo

Strategische Positionierung

Naga Chandrasekaran, Co-General Manager von Intel Foundry, bezeichnete die Bemühungen als essenziell für die Ambitionen des Unternehmens im Auftragsfertigungsgeschäft. „Unternehmen, die die immer komplexeren KI-Produkte der Zukunft entwickeln, benötigen Fertigungsinnovationen, die serienreif und einfach zu nutzen sind“, sagte er.finance.yahoo

Die Ankündigung erfolgt zu einem Zeitpunkt, an dem Intel versucht, externe Foundry-Kunden zu gewinnen. Jeff Kilburg, Gründer von KKM Financial, bezeichnete die erweiterte Kapitalbeschaffung von Intel in Höhe von 20 Milliarden US-Dollar kürzlich als strategischen Schritt. Dies deute darauf hin, dass das Unternehmen kurz vor dem Gewinn wichtiger Foundry-Kunden stehen könnte, was zusätzliche Produktionskapazitäten erfordert.benzinga