„Intel Foundry“ su naujos kartos EUV technologija peržengė 1 mln. silicio plokštelių ribą

„Intel“ ↗ 1.71% gamybos padalinys ir ASML ↗ 2.14% antradienį paskelbė apie išplėstą bendradarbiavimą, siekdami paspartinti pramonės pasirengimą „High NA EUV“ (didelės skaitmeninės apertūros ekstremalios ultravioletinės šviesos) litografijai. Ši naujos kartos lustų gamybos technologija laikoma itin svarbia gaminant vis sudėtingesnius dirbtinio intelekto (DI) procesorius. Po šio pranešimo „Intel“ akcijos priešprekybinėje sesijoje pabrango daugiau nei 3 proc.benzinga

Kalifornijos mieste Monterėjuje vykusioje konferencijoje „SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography“ bendrovės atskleidė, kad „Intel Foundry“ jau apdorojo daugiau nei milijoną silicio plokštelių, naudodama „High NA EUV“ technologiją įrangos sertifikavimui, testavimui, tyrimams ir plėtrai bei masinei gamybai. Ši technologija šiuo metu naudojama tam tikriems „Intel Core Ultra Series 3“ procesorių (kodiniu pavadinimu „Panther Lake“), gaminamų pagal „Intel 18A“ technologinį procesą, sluoksniams. „Intel“ teigimu, gaminiai, kurių gamyboje šiuose sluoksniuose pritaikyta „High NA“ technologija, pasiekia arba viršija analogiškų sluoksnių, pagamintų naudojant dabartinę ASML „NXE EUV“ platformą, našumą.finance.yahoo

Siekis naudoti didesnes fotokaukes

Pagrindinis bendradarbiavimo tikslas yra perėjimas prie didesnių, 6×12 colių dydžio fotokaukių, kurios leistų naudojant „High NA EUV“ gaminti didelius lustus, reikalingus DI ir duomenų centrų apkrovoms. Dabartinė EUV įranga gali gaminti maždaug 800 kvadratinių milimetrų ploto lustus, o prie šios ribos jau artėja tokių bendrovių kaip „Nvidia“ aukščiausios klasės procesoriai. „Intel Foundry“ daugiau nei trejus metus aktyviai rėmė didelio formato fotokaukių iniciatyvą, bendradarbiaudama su ASML, fotokaukių gamintojais, automatizavimo tiekėjais, EDA (elektroninio projektavimo automatizavimo) partneriais ir kitais puslaidininkių gamintojais, kad sukurtų reikiamus standartus bei infrastruktūrą.tradingkey+1

ASML technologijų vadovas Marco Pietersas teigė, kad didesnių fotokaukių technologija galėtų padidinti „High NA EUV“ gamybos efektyvumą maždaug 40 proc., o bandomąją gamybos liniją planuojama paleisti apie 2031 m., o masinei gamybai pasirengti iki 2033 m.tradingkey

„„Intel Foundry“ buvo viena iš pagrindinių lyderių pramonėje diegiant „High NA“ technologiją: nuo pirmosios komercinės EXE sistemos įdiegimo 2024 m. ir naujausios kartos įrankių sertifikavimo iki pirmojo masinės gamybos loginio produkto, pagaminto naudojant „High NA“, išsiuntimo“, sakė ASML generalinis direktorius Christophe Fouquet.finance.yahoo

Strateginė pozicija

Vienas iš „Intel Foundry“ generalinių direktorių Naga Chandrasekaranas šias pastangas įvardijo kaip itin svarbias bendrovės gamybos ambicijoms. „Įmonėms, kuriančioms vis sudėtingesnius ateities DI produktus, reikia gamybos inovacijų, kurios būtų parengtos gamybai ir lengvai naudojamos“, sakė jis.finance.yahoo

Šis pranešimas paskelbtas „Intel“ siekiant pritraukti išorinių gamybos klientų. „KKM Financial“ įkūrėjas Jeffas Kilburgas neseniai pavadino „Intel“ sprendimą padidinti kapitalo pritraukimą iki 20 mlrd. JAV dolerių strateginiu žingsniu, rodančiu, kad bendrovė gali artėti prie stambių gamybos užsakymų, kuriems įvykdyti reikės papildomų gamybos pajėgumų.benzinga