Samsung construye el primer transistor apilado en 3D del mundo con un paso récord de 42 nm

15 fuentes
  • Samsung Electronics afirmó haber demostrado el primer transistor apilado en 3D con un paso de puerta de 42 nm, superando el récord anterior de la industria de 48 nm.
  • La tecnología apila los transistores verticalmente en lugar de lado a lado, duplicando teóricamente la densidad en la misma área de chip para semiconductores lógicos.
  • El artículo ganó el premio al Mejor Artículo en el Simposio VLSI 2026; Samsung dice que planea buscar la comercialización para chips de IA y computación de alto rendimiento.
Fuentes (15)
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  2. 2 삼성전자, 로직 반도체도 수직 적층… VLSI 최고논문 선정 biz.chosun.com
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  8. 8 삼성전자, 가장 작은 반도체 소자를 수직 적층…업계 최초 www.news1.kr
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  11. 11 从 GAA 到 3D 堆叠式 FET:三星展示业界最小 42nm 栅距 3D 堆叠晶体管,理论密度翻倍 finance.sina.com.cn
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  15. 15 What’s Next In Scaling, Stacking semiengineering.com

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