„TSMC“, „Samsung“ ir „Intel“ įsipareigojo naudoti naujos kartos ASML EUV įrangą

Vienintelė pasaulyje ekstremalios ultravioletinės (EUV) litografijos sistemų tiekėja „ASML Holding“ ↗ 4.17% užsitikrino trijų pirmaujančių lustų gamintojų įsipareigojimus naudoti jos „High-NA EUV“ įrangą. Tai žymi suderintą pramonės žingsnį siekiant patenkinti straujai augančią dirbtinio intelekto procesorių paklausą.

Bendras veiksmų planas iki 2033 m.

Pirmadienį, prieš prasidedant „SPIE Bacus“ konferencijai, išleistuose bendruose pranešimuose bendrovė ASML pristatė susitarimus su „Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.“ ↗ 2.85%, „Samsung Electronics“ ir „Intel“ ↗ 4.51%. Šiais susitarimais numatoma pereiti nuo kelis dešimtmečius naudoto 6 colių fotokaukių formato prie didesnių 12 colių kaukių, pritaikytų „High-NA EUV“ litografijai. Veiksmų plane numatyta iki 2031 m. įrengti 12 colių kaukių bandomąją liniją, o iki 2033 m. visiškai parengti litografijos sistemas pažangių mazgų gamybai.asml+2

„Samsung“ planuoja įdiegti ASML „High-NA EUV“ litografiją į masinę DRAM atminties gamybą iki 2028 m., ir tai būtų pirmasis toks žingsnis atminties lustų pramonėje. TSMC ketina pradėti naudoti „High-NA“ technologiją pažangiems loginiams mazgams nuo 2030 m. „Intel“, kuri jau įrengė „High-NA“ įrenginius savo gamyklose, užbaigia šį technologiją diegiančių įmonių trejetą.trendforce+4

Reikšmė DI lustų gamybai

„High-NA EUV“ sistemos, kurių vieneto kaina gali siekti iki 400 mln. JAV dolerių, užtikrina proveržį raiškoje: lustų gamintojai gali spausdinti maždaug 1,7 karto mažesnius elementus nei ankstesnės kartos EUV įrankiais ir beveik patrigubinti tranzistorių tankį. Šis pajėgumas yra esminis gaminant kitos bangos DI procesorius, nes didesnis tranzistorių skaičius luste tiesiogiai reiškia didesnę skaičiavimo galią.bloomberg+1

Remiantis „Samsung“ pranešimu, tikimasi, kad perėjimas prie 12 colių fotokaukių padidins gamyklų našumą, sumažins lustų gamybos sąnaudas ir pašalins jungimo apribojimus, kurie šiuo metu varžo lustų kūrimo lankstumą. Puslaidininkių pramonė kelis dešimtmečius rėmėsi 6 colių formatu, todėl šis pokytis yra vienas reikšmingiausių infrastruktūros posūkių pastaruoju metu.digitimes+1

Platesnis pramonės pagreitis

Šie pranešimai paskelbti išskirtinės ASML įrangos paklausos laikotarpiu. Anksčiau šiais metais „SK Hynix“ ↗ 8.14% pateikė 7,9 mlrd. JAV dolerių vertės ASML EUV sistemų užsakymą, kuris yra didžiausias vienkartinis užsakymas bendrovės istorijoje. ASML patvirtino savo 2030 m. pajamų tikslą, siekiantį nuo 44 mlrd. iki 60 mlrd. eurų.247wallst

Trijų pažangiausių puslaidininkių gamintojų suderintas įsipareigojimas pabrėžia neprilygstamą ASML padėtį atveriant kelią į ateities lustų mąstelio plėtrą ir rodo bendrą pramonės statymą, kad DI paklausa pateisins didžiules reikalingas kapitalo investicijas.