litografija

ASML kelia 2026 m. prognozes, bet įspėja, kad negalės patenkinti dirbtinio intelekto paklausos

Trečiadienį, spalio 14 d., ASML padidino savo 2026 m. prognozę – tai jau trečias toks padidinimas šiais metais. Bendrovė taip pat įspėjo, kad dabartiniai 2027 ir 2028 m. gamybos planai visiškai nepatenkins klientų paklausos lustų gamybos įrenginiams, augant investicijoms į…

ASML didina 2026 m. prognozes po sėkmingo antrojo ketvirčio

ASML akcijos ketvirtadienį ir penktadienį Europos prekybos sesijose pabrango maždaug 1,6%, investuotojams įvertinus lūkesčius viršijusius antrojo ketvirčio rezultatus ir padidintas metines prognozes, kurios dar labiau įtvirtino Nyderlandų bendrovės dominavimą pažangios lustų gamybos įrangos rinkoje.

„Huawei“ vadovauja Kinijos pastangoms kurti savus lustų gamybos įrankius

„Huawei“ tapo pagrindiniu koordinatoriumi ir investuotoju Kinijos ambicingiausiose pastangose sukurti vietinę litografijos įrangą, atlikdamas, kaip vienas analitikas pavadino, „projekto vadovo“ vaidmenį šaliai siekiant nutraukti priklausomybę nuo ASML ir Vakarų puslaidininkių įrankių gamintojų.

ASML pradėjo milžiniško miestelio statybas Eindhovene: sieks patenkinti DI lustų paklausą

ASML, Nyderlandų bendrovė, turinti beveik monopoliją pažangiems puslaidininkiams gaminti reikalingų įrenginių rinkoje, antradienį pradėjo naujo milžiniško pramonės miestelio statybas šalia Eindhoveno, tikėdamasi, kad auganti dirbtinio intelekto lustų paklausa užtikrins ilgametį augimą.

„Intel Foundry“ su naujos kartos EUV technologija peržengė 1 mln. silicio plokštelių ribą

„Intel“ gamybos padalinys ir ASML antradienį paskelbė apie išplėstą bendradarbiavimą, siekdami paspartinti pramonės pasirengimą „High NA EUV“ (didelės skaitmeninės apertūros ekstremalios ultravioletinės šviesos) litografijai. Ši naujos kartos lustų gamybos technologija laikoma itin svarbia gaminant vis sudėtingesnius dirbtinio intelekto (DI) procesorius.…

„Zeiss“ vadovas: Kinija atsilieka 15 metų nuo pažangiausios mikroschemų įrangos

Kinijai trūksta maždaug pusantro dešimtmečio iki pažangiausių kraštutinės ultravioletinės spinduliuotės (EUV) litografijos įrenginių sukūrimo, teigia Vokietijos bendrovės „Zeiss Group“ Carl Zeiss Meditec AG, kurios optika yra esminė pažangiausiai pasaulyje mikroschemų gamybos įrangai, vadovas.

„Intel“ ir „TSMC“ nesutaria dėl 400 mln. dolerių kainuojančių ASML „High-NA“ įrenginių

„ASML Holding“ atsidūrė didėjančio strateginio susiskaldymo tarp didžiausių pasaulio lustų gamintojų centre, nes jos naujos kartos „High-NA EUV“ litografijos mašinos, kainuojančios apie 400 mln. dolerių už vienetą, verčia „Intel“ ir „TSMC“ (Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited) rinktis priešingus kelius.

ASML akcijos smuko dėl baimės dėl Kinijos lustų įrangos

ASML Holding akcijos antradienį, 2026 m. rugpjūčio 18 d., atpigo iki 5,5 proc., investuotojams sunerimus dėl Kinijos pažangos kuriant vietinę DUV litografijos įrangą, o tai sukrėtė puslaidininkių įrangos sektorių.

ASML vėl didina 2026 m. prognozes: svarbiausi klientai atideda brangiausių įrenginių pirkimą

„ASML Holding“ padidino savo 2026 m. visų metų pajamų prognozę nuo 43 iki 45 mlrd. eurų. Tai jau antrasis prognozės tikslinimas aukštyn šiais metais, kurį lėmė straigi litografijos įrangos paklausa iš mikroschemų gamintojų, skubančių didinti su dirbtiniu intelektu susijusius pajėgumus.…

ASML akcijos atsigavo analitikams pavadinus Kinijos konkurentų išpardavimą perdėta reakcija

ASML akcijos ketvirtadienį, liepos 30 d., pakilo maždaug 6,8 proc., atgaudamos dalį iš daugiau nei 60 mlrd. eurų rinkos vertės, prarastos per dviejų dienų išpardavimą savaitės pradžioje. Atsigavimas įvyko Volstrito analitikams pasipriešinus tam, ką jie apibūdino kaip perdėtą reakciją į…

„Kospi“ indeksas sustabdytas dėl Kinijos lustų rinkos baimės

Šią savaitę iš Kinijos atėjusios naujienos sukėlė šoką pasaulinėms puslaidininkių rinkoms: sėkmingas atminties lustų gamintojos „ChangXin Memory Technologies“ (CXMT) debiutas Šanchajaus vertybinių popierių biržoje ir pranešimai, kad valstybės remiama įmonė pradėjo masinę vietinių giliųjų ultravioletinių spindulių (DUV) litografijos įrenginių gamybą.…

ASML akcijos krenta dėl pranešimų apie Kinijos lustų įrangą, BofA vadina tai perdėta reakcija

ASML akcijos antradienį toliau krito po pranešimų, kad valstybės remiama Kinijos įmonė pradėjo masinę gilaus ultravioletinio spinduliavimo (DUV) litografijos mašinų gamybą, tačiau Bank of America klientams nurodė, kad išpardavimas yra "perdėta reakcija" ir pakartojo savo pirkimo reitingą Nyderlandų lustų gamintojui.

Kinijos litografijos baimės nusmukdė Azijos mikroschemų akcijas

Azijos puslaidininkių sektoriaus akcijos antradienį patyrė masinį išpardavimą, nes baimės dėl Kinijos pažangos kuriant vietinius litografijos įrenginius susijungė su platesniu susirūpinimu dėl išlaidų dirbtinio intelekto (DI) infrastruktūrai, sukeldamos vieną aštriausių sektoriaus nuosmukių šiais metais.

Kinijos DUV įrenginiai ir CXMT debiutas sukrėtė pasaulines lustų rinkas

Pasaulinės puslaidininkių rinkos pirmadienį patyrė didelį spaudimą po dviejų žinių iš Kinijos: pranešimo, kad valstybės remiama grupė pradėjo gaminti vietinius DUV litografijos įrenginius, ir itin sėkmingo ChangXin Memory Technologies debiuto Šanchajaus vertybinių popierių biržoje.

Kinijoje sukurtas DUV įrenginys smukdo ASML akcijas

ASML akcijos pirmadienį smarkiai krito po „The Information“ pranešimo, kad Šanchajuje įsikūrusi valstybės remiama bendrovė pradėjo ribotą šalies gamybos imersinių giliosios ultravioletinės (DUV) litografijos įrenginių masinę gamybą. Tai pirmasis toks pasiekimas Kinijoje, keliantis grėsmę Nyderlandų įmonės likusiai prieigai prie jos…

ASML trečdaliu sutrumpina EUV mašinų gamybos laiką, siekdama sumažinti dirbtinio intelekto lustų gamybos kliūtis

ASML siekia maždaug trečdaliu sutrumpinti pažangių ekstremalios ultravioletinės litografijos mašinų gamybos ir testavimo laiką, trečiadienį žurnalistams sakė finansų direktorius Rogeris Dassenas. Šiuo žingsniu siekiama sumažinti gamybos kliūtis, kurios riboja puslaidininkių pramonės galimybes sparčiai didinti dirbtinio intelekto lustų gamybos pajėgumus.

„ASML“ planuoja didinti lustų gamybos įrangos kainas, nepaisydama „TSMC“ pasipriešinimo

„ASML“, vienintelė pasaulyje ekstremalios ultravioletinės litografijos mašinų gamintoja, planuoja didinti savo lustų gamybos įrangos kainas, nors jos didžiausia klientė „Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.“ tam priešinasi, teigiama antradienį „The Information“ paskelbtoje ataskaitoje.

„ASML“ vėl padidino 2026 m. prognozę, nes antrojo ketvirčio rezultatai viršijo lūkesčius

Trečiadienį „ASML“ paskelbė 2026 m. antrojo ketvirčio rezultatus, kurie viršijo analitikų lūkesčius, todėl Nyderlandų puslaidininkių įrangos gamintoja antrą kartą šiais metais padidino visų metų pajamų prognozę, nes dirbtinio intelekto mikroschemų paklausa ir toliau sparčiai auga.

„Intel“ pradėjo tiekti lustus, pagamintus naudojant ASML „High NA EUV“ įrankius

ASML antradienį paskelbė, kad „Intel“ „Foundry“ pradėjo masinę tam tikrų „Intel Core Ultra Series 3“ procesorių, kodiniu pavadinimu „Panther Lake“, gamybą, naudodama ASML naujos kartos „High NA EUV“ litografijos technologiją „Intel 18A“ procesų mazge. Šis etapas žymi pirmąjį kartą, kai…

JAV įspėja, kad „ASML“ pažangiausias EUV lustų gamybos įrenginys galėjo pasiekti Kiniją

JAV prekybos sekretorius Howardas Lutnickas tiesiogiai išreiškė susirūpinimą „ASML“ vadovybei, kad vienas iš Nyderlandų bendrovės ekstremalios ultravioletinės spinduliuotės (EUV) litografijos įrenginių – pažangiausių egzistuojančių lustų gamybos įrankių – galėjo patekti į Kiniją, pažeidžiant JAV vadovaujamus eksporto apribojimus, teigiama „Bloomberg News“…

Išardymo rezultatai rodo, kad naujausias SMIC lustų procesas atitinka TSMC 7 nm eros tankį

„SemiAnalysis“ savaitgalį paskelbė pirmąjį viešą išardymo vertinimą iš savo naujos STEEL laboratorijos (Teardown Engineering & Evaluation Lab), pateikdama išsamią techninę „Huawei“ lusto „Kirin 9030 Pro“, sukurto naudojant pažangiausią SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) N+3 proceso mazgą, analizę. Pagrindinė ataskaitos išvada:…