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Die Aktien von ASML fielen am Dienstag stark, da europäische Halbleiteraktien unter breiten Verkaufsdruck gerieten, nachdem Samsung Electronics vorläufige Ergebnisse für das zweite Quartal meldete, die trotz Rekordgewinnen die Anleger enttäuschten.

Europas Halbleiterindustrie steht vor einer „düsteren Zukunft“, eingezwängt zwischen chinesischen Exportkontrollen für kritische Materialien und einer tiefgreifenden technologischen Abhängigkeit von den Vereinigten Staaten. Dies geht aus einem am Donnerstag veröffentlichten, EU-finanzierten Bericht hervor, der die strukturellen Schwachstellen aufdeckt, die die…

Die Aktien von ASML stiegen am Donnerstag, dem 25. Juni, im frühen europäischen Handel um mehr als 3,5 %, als eine breitere Technologie-Rallye den Kontinent erfasste. Auslöser waren die hervorragenden Quartalsergebnisse von Micron Technology, die das Vertrauen der Anleger in…

ASML Holding hat kategorisch bestritten, jemals eine Maschine für extreme ultraviolette Lithografie (EUV) nach China geliefert zu haben, und widersprach damit den Bedenken des US-Handelsministers Howard Lutnick, dass beschränkte Ausrüstung unter Verletzung von Exportkontrollen China erreicht haben könnte. Die Konfrontation…

US-Handelsminister Howard Lutnick hat gegenüber Führungskräften von ASML direkt Bedenken geäußert, dass eine der extrem ultravioletten Lithographiemaschinen des niederländischen Unternehmens – die fortschrittlichsten Werkzeuge zur Chipherstellung überhaupt – unter Verstoß gegen die von den USA angeführten Exportbeschränkungen nach China gelangt…

ASML -CEO Christophe Fouquet warnte am Mittwoch, dass der Chiphersteller sich vor Lieferengpässen schützen müsse, während er sich darauf vorbereitet, massive neue Projekte wie Elon Musks Terafab, die geplante Halbleiter-Megafabrik in Texas, zu bedienen.

ASML, TSMC Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited und das belgische Forschungszentrum Imec haben gemeinsam einen fertigungskompatiblen Integrationsprozess für Transistoren aus zweidimensionalen Materialien auf industrietauglichen 300mm-Wafern demonstriert und dabei Kontakt-Pitches von bis zu 50 Nanometern erreicht. Die Ergebnisse, die auf dem…