Intel Foundry supera el millón de obleas con tecnología EUV de próxima generación

Intel ↗ 5.49% Foundry y ASML ↗ 6.21% anunciaron el martes una colaboración ampliada para acelerar la preparación de la industria para la litografía ultravioleta extrema de alta apertura numérica (High NA EUV), la tecnología de fabricación de chips de próxima generación considerada esencial para fabricar procesadores de IA cada vez más complejos. Las acciones de Intel subieron más de un 3% en las operaciones previas a la comercialización tras el anuncio.benzinga

Las empresas revelaron en la conferencia SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography en Monterey, California, que Intel Foundry ya ha procesado más de un millón de obleas utilizando High NA EUV en la certificación de herramientas, pruebas, investigación y desarrollo, y producción en volumen. Actualmente, la tecnología se utiliza en capas seleccionadas de los procesadores Intel Core Ultra Series 3, con el nombre en clave Panther Lake, fabricados con el nodo de proceso Intel 18A. Intel afirmó que los productos fabricados con High NA en esas capas igualan o superan el rendimiento de las capas comparables producidas con la plataforma NXE EUV existente de ASML.finance.yahoo

Hacia máscaras más grandes

Un enfoque central de la colaboración es la transición a fotomáscaras más grandes de 6×12 pulgadas, lo que permitiría a High NA EUV producir los chips de gran tamaño que demandan las cargas de trabajo de IA y centros de datos. Los equipos de EUV actuales pueden fabricar chips con un área de aproximadamente 800 milímetros cuadrados, un límite al que ya se están acercando los procesadores de gama alta de empresas como Nvidia. Intel Foundry ha pasado más de tres años impulsando la iniciativa del formato de máscara grande, colaborando con ASML, fabricantes de máscaras, proveedores de automatización, socios de EDA y otros fabricantes de semiconductores para desarrollar las normas y la infraestructura necesarias.tradingkey+1

El director de tecnología de ASML, Marco Pieters, señaló que la tecnología de fotomáscaras más grandes podría aumentar la eficiencia de producción de High NA EUV en aproximadamente un 40%, con una línea de producción piloto prevista para alrededor de 2031 y la preparación para la producción en masa para 2033.tradingkey

"Intel Foundry ha sido uno de los líderes clave en la adopción de High NA por parte de la industria, desde la instalación del primer sistema comercial EXE en 2024, pasando por la calificación de la última generación de herramientas, hasta el envío del primer producto lógico de gran volumen fabricado con High NA", declaró el CEO de ASML, Christophe Fouquet.finance.yahoo

Posicionamiento estratégico

El codirector general de Intel Foundry, Naga Chandrasekaran, enmarcó el esfuerzo como algo esencial para las ambiciones de fundición de la empresa. "Las empresas que construyen los productos de IA cada vez más complejos del futuro necesitan innovaciones de fabricación que estén listas para la producción y sean fáciles de usar", afirmó.finance.yahoo

El anuncio se produce en un momento en que Intel trabaja para atraer a clientes externos de fundición. El fundador de KKM Financial, Jeff Kilburg, calificó recientemente la ampliación de la captación de capital de Intel de 20.000 millones de dólares como un movimiento estratégico, sugiriendo que la empresa podría estar cerca de conseguir importantes clientes de fundición que requieren capacidad de fabricación adicional.benzinga