Newsletter Subscribe
Enter your email address below and subscribe to our newsletter
[forminator_form id="25163"]

digitimes+1etnewsetnewsHuawei pyrkii kotimaisen toimitusketjunsa kautta aloittamaan puolijohdealaisten lasisubstraattien massatuotannon vuoteen 2027 mennessä. Siirto voisi vahvistaa kiinalaisjätin kilpailuasemaa globaalissa AI-sirukilvassa, käy ilmi tällä viikolla julkaistusta DigiTimesin raportista.digitimes+1
Yhtiö on laatinut tiekartan yhteistyöstä kiinalaisten valmistajien, kuten BOE:n, Visionoxin, Yunchen Semiconductorin ja AKM Midvalleyn, kanssa lasisubstraattien tuottamiseksi tekoälykiihdyttimiinsä. Jos Huawei pitää kiinni aikataulustaan, se olisi yli vuoden edellä eteläkorealaisia lasisubstraattien valmistajia, jotka valmistautuvat massatuotantoon vasta vuoden 2028 jälkeen.etnews
Kiinalaiset sirukomponenttien toimittajat kehittävät Through-Glass Via (TGV) ja Glass Interposer -teknologioita, eli piirisarjojen välisiä liitäntöjä, jotka parantavat nopeutta ja suorituskykyä. Huawei Centralin mukaan yhtiö väittää näiden materiaalien tekevän puolijohteista 25 % ohuempia ja 30 % energiatehokkaampia. Vaikka alan asiantuntijat odottavat varsinaisten lasisubstraatteihin perustuvien tekoälykiihdytinalustojen saapuvan noin vuonna 2030, Kiina saattaisi esitellä tällaisia tuotteita jo vuonna 2028 Huawein nopeutetun aikataulun ansiosta.etnews
Huawei hallitsee tällä hetkellä Kiinan AI-sirumarkkinoita pitkälti siksi, että Nvidia kohtaa Yhdysvaltain vientirajoituksia kehittyneiden sirujen myynnissä Kiinaan. Analyytikot kuitenkin huomauttavat, että markkinajohtajuus kotimaassa ei käänny suoraan globaaliksi teknologiseksi johtajuudeksi. Lasisubstraatit tarjoavat tiheämmän sirujen 3D-pinoamisen, vähemmän vääntymistä korkean lämpötilan valmistuksessa, pienemmän virranvuodon ja nopeammat tiedonsiirtonopeudet. Nämä ominaisuudet voisivat auttaa Huawein Ascend-suorittimia kilpailemaan laajemmin.
Ilman pääsyä EUV-litografialaitteisiin (extreme ultraviolet) Huawei pitää lasisubstraattien käyttöönottoa taloudellisesti järkevänä keinona parantaa sirujen suorituskykyä kehittyneen koteloinnin avulla transistorien pienentämisen sijaan. Koko puolijohdeala, mukaan lukien TSMC ja Intel , on myös siirtymässä kohti lasisubstraatteja tekoälysirujen pii-alojen kasvaessa edelleen.x+1