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finance.yahoo+1aiweekly+1finance.yahoo+1Les actions d'ASML ont fortement chuté lundi après que The Information a rapporté qu'une entreprise publique basée à Shanghai avait commencé la production limitée en série de machines locales de lithographie dans l'ultraviolet profond à immersion, une première pour la Chine qui menace le dernier accès de l'entreprise néerlandaise à son plus grand marché émergent.finance.yahoo+1
L'action a effacé ses gains initiaux de plus de 2% et a perdu jusqu'à 6,6%, entraînant dans sa chute les équipementiers américains de puces Applied Materials , Lam Research et KLA Corp .finance.yahoo
Selon le rapport, Shanghai Yuliangsheng Technology, une jeune entreprise liée à Huawei et au groupe d'équipements SiCarrier, a commencé à produire des scanners DUV à immersion conçus pour les puces de 28 nanomètres en exposition unique, le multimotif pouvant étendre leur capacité jusqu'à 7 nm. La société a rassemblé des équipes de développement de plusieurs entreprises chinoises pour franchir cette étape.aiweekly+1
La production reste modeste: environ cinq unités sont attendues cette année, pour atteindre environ 20 en 2027, avec des livraisons prévues pour SMIC Semiconductor Manufacturing International Corporation, Hua Hong Semiconductor et ChangXin Memory Technologies. SMIC teste la machine depuis septembre 2025.globalbankingandfinance+2
La Chine représente jusqu'à 20% des revenus d'ASML en 2026, selon Reuters, ce qui en fait l'exposition géopolitique la plus sensible de l'entreprise sur le plan commercial. Les contrôles à l'exportation interdisent déjà à ASML de vendre ses systèmes d'ultraviolet extrême plus avancés à la Chine, laissant les outils DUV comme sa principale activité sur place.reuters+1
Reuters a noté que le système chinois accuse encore un retard en matière de performances et de fiabilité et nécessite d'autres tests avant un déploiement plus large, préservant pour l'instant les avantages technologiques d'ASML. La Chine développe également une machine EUV nationale, bien qu'elle en soit encore au stade de prototype.reuters
Cette nouvelle intervient alors que les États-Unis intensifient leurs efforts pour restreindre l'accès de la Chine aux équipements de pointe pour puces. En avril, des parlementaires américains des deux partis ont présenté le MATCH Act, qui interdirait explicitement la vente et l'entretien de tous les systèmes de lithographie DUV à immersion aux fondeurs chinois, notamment SMIC, Hua Hong et CXMT. Si elle était adoptée, une telle loi éliminerait l'activité DUV d'ASML en Chine indépendamment des progrès locaux, ce qui fait du rapport de lundi un signal indiquant que Pékin pourrait se préparer à cette éventualité.asiatimes