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finance.yahoo+1aiweekly+1finance.yahoo+1Las acciones de ASML cayeron drásticamente el lunes después de que The Information informara que una empresa estatal con sede en Shanghái ha comenzado la producción en masa limitada de equipos de litografía de ultravioleta profundo por inmersión de fabricación nacional, un hito para China que amenaza el acceso restante de la firma holandesa a su mayor mercado emergente.finance.yahoo+1
El valor borró sus ganancias iniciales de más del 2% y cayó hasta un 6,6%, arrastrando a la baja a los fabricantes estadounidenses de equipos para semiconductores Applied Materials , Lam Research y KLA Corp .finance.yahoo
Según el informe, Shanghai Yuliangsheng Technology, una empresa emergente vinculada a Huawei y al grupo de equipos SiCarrier, ha comenzado a fabricar escáneres DUV por inmersión diseñados para chips de 28 nanómetros en exposición única, cuya capacidad podría extenderse a 7 nm mediante patrones múltiples. La empresa reunió a equipos de desarrollo de varias firmas chinas para alcanzar este hito.aiweekly+1
La producción sigue siendo modesta: se esperan unas cinco unidades este año, que aumentarán a cerca de 20 en 2027, con entregas previstas para SMIC Semiconductor Manufacturing International Corporation, Hua Hong Semiconductor y ChangXin Memory Technologies. SMIC ha estado probando la máquina desde septiembre de 2025.globalbankingandfinance+2
China representa hasta el 20% de los ingresos de ASML en 2026, según Reuters, lo que la convierte en la exposición geopolítica comercialmente más sensible de la empresa. Los controles de exportación ya prohíben a ASML vender sus sistemas más avanzados de ultravioleta extremo a China, dejando los equipos DUV como su principal negocio allí.reuters+1
Reuters señaló que el sistema chino todavía va por detrás en rendimiento y fiabilidad, y requiere más pruebas antes de un despliegue más amplio, manteniendo intactas por ahora las ventajas tecnológicas de ASML. China también está desarrollando una máquina EUV nacional, aunque sigue en fase de prototipo.reuters
La noticia llega en medio de un creciente esfuerzo de EE. UU. por restringir el acceso de China a equipos avanzados de fabricación de chips. En abril, legisladores estadounidenses de ambos partidos presentaron la ley MATCH Act, que prohibiría explícitamente la venta y el mantenimiento de todos los sistemas de litografía DUV por inmersión a los fabricantes chinos de chips, incluidos SMIC, Hua Hong y CXMT. De aprobarse, dicha legislación eliminaría el negocio de DUV de ASML en China independientemente de los avances locales, lo que convierte el informe del lunes en una señal de que Pekín podría estar preparándose para esa eventualidad.asiatimes