Čínský vlastní litografický stroj poslal akcie ASML dolů

Akcie společnosti ASML ↘ 0.19% v pondělí prudce klesly poté, co server The Information informoval, že šanghajská státem podporovaná firma zahájila omezenou sériovou výrobu vlastních imerzních DUV litografických strojů. Pro Čínu jde o historický průlom, který ohrožuje zbývající přístup nizozemské firmy na její největší rozvíjející se trh.finance.yahoo+1

Akcie smazaly počáteční zisky přesahující 2 % a oslabily až o 6,6 %, což stáhlo dolů i americké výrobce zařízení pro výrobu čipů Applied Materials ↗ 0.41%, Lam Research ↘ 1.18% a KLA Corp ↘ 0.24%.finance.yahoo

Co Čína vyvinula

Podle zprávy zahájila společnost Shanghai Yuliangsheng Technology, startup napojený na Huawei a skupinu SiCarrier, výrobu imerzních DUV skenerů určených pro 28nanometrové čipy při jednoexpozici. Vícenásobná expozice by pak mohla schopnosti stroje rozšířit až na 7 nm. K dosažení tohoto milníku společnost sestavila vývojové týmy z několika čínských firem.aiweekly+1

Objem výroby zatím zůstává skromný, v tomto roce se očekává přibližně pět kusů a v roce 2027 nárůst na zhruba 20 jednotek. Dodávky jsou plánovány pro společnosti SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation), Hua Hong Semiconductor a ChangXin Memory Technologies. Společnost SMIC tento stroj testuje již od září 2025.globalbankingandfinance+2

Proč je to pro ASML důležité

Podle agentury Reuters se Čína podílí na tržbách společnosti ASML pro rok 2026 až z 20 %, což z ní dělá z komerčního hlediska nejcitlivější geopolitické riziko firmy. Exportní omezení již společnosti ASML zakazují prodávat do Číny pokročilejší systémy využívající extrémní ultrafialové záření (EUV), takže hlavní část jejího tamního podnikání tvoří právě DUV zařízení.reuters+1

Agentura Reuters poznamenala, že čínský systém zatím zaostává ve výkonu i spolehlivosti a před širším nasazením vyžaduje další testování, takže technologický náskok ASML zůstává prozatím nedotčen. Čína vyvíjí také vlastní EUV stroj, ten však zůstává ve fázi prototypu.reuters

Širší kontext

Tato zpráva přichází v době, kdy USA stupňují tlak na omezení přístupu Číny ke pokročilým zařízením pro výrobu čipů. V dubnu předložili američtí zákonodárci z obou hlavních stran návrh zákona MATCH Act, který by výslovně zakázal prodej a servis všech imerzních litografických systémů DUV čínským výrobcům čipů včetně společností SMIC, Hua Hong a CXMT. Pokud by byl tento zákon přijat, likvidoval by obchod společnosti ASML s DUV zařízeními v Číně bez ohledu na pokrok samotné Číny. Pondělní zpráva je tak signálem, že se Peking možná na tuto možnost připravuje.asiatimes