Newsletter Subscribe
Enter your email address below and subscribe to our newsletter
[forminator_form id="25163"]

ASML pyrkii lyhentämään kehittyneiden äärimmäisen ultraviolettilitografian (EUV) koneidensa rakentamiseen ja testaamiseen kuluvaa aikaa noin kolmanneksella, kertoi talousjohtaja Roger Dassen toimittajille keskiviikkona. Toimenpiteen tavoitteena on helpottaa tuotannon pullonkaulaa, joka rajoittaa puolijohdeteollisuuden kykyä laajentaa tekoälysirujen tuotantokapasiteettia.

ASML, maailman ainoa äärimmäisen ultraviolettilitografian koneiden valmistaja, suunnittelee hinnankorotuksia sirunvalmistuslaitteilleen, vaikka sen suurin asiakas, Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., vastustaa siirtoa, kertoo The Informationin tiistaina julkaisema raportti.

Aasialaiset puolijohdeosakkeet kokivat voimakkaan nousun keskiviikkona, kun sijoittajat palasivat siruosakkeisiin viimeaikaisen myyntiaallon jälkeen. Etelä-Korean Kospi kirjasi parhaan päiväkohtaisen tuloksensa yli kuukauteen, ja ASML julkaisi odotettua vahvemman tulosraportin, joka nosti tunnelmaa koko sektorilla.

ASML, Euroopan arvokkain yritys ja maailman suurin sirunvalmistuslaitteiden toimittaja, ylitti liikevaihto-odotukset keskiviikkoaamuna julkaistussa vuoden 2026 toisen vuosineljänneksen tulosraportissaan, mikä nosti Nasdaq-futuureja ja vahvisti luottamusta tekoälykauppaan.

ASML raportoi keskiviikkona vuoden 2026 toisen vuosineljänneksen tuloksen, joka ylitti analyytikoiden odotukset. Tämä sai hollantilaisen puolijohdelaitteiden valmistajan nostamaan koko vuoden liikevaihtoennustettaan jo toisen kerran tänä vuonna, kun tekoälysirujen kysyntä jatkaa kiihtymistään.

ASML ilmoitti tiistaina, että Intel Foundry on aloittanut valikoitujen Intel Core Ultra Series 3 -suorittimien (koodinimeltään Panther Lake) suurtuotannon käyttämällä ASML:n seuraavan sukupolven High NA EUV -litografiateknologiaa Intel 18A -prosessisolmussa. Virstanpylväs merkitsee ensimmäistä kertaa, kun tätä edistynyttä, noin 400 miljoonaa…

ASML:n osakkeet laskivat jyrkästi tiistaina, kun eurooppalaiset puolijohdeosakkeet joutuivat laajan myyntipaineen alle sen jälkeen, kun Samsung Electronics raportoi toisen vuosineljänneksen alustavista tuloksista, jotka pettivät sijoittajat ennätystuloksista huolimatta.

Euroopan puolijohdeteollisuus kohtaa "synkän tulevaisuuden", joka puristuu Kiinan kriittisiä materiaaleja koskevien vientirajoitusten ja Yhdysvalloista johtuvan syvän teknologisen riippuvuuden väliin, todetaan torstaina julkaistussa EU:n rahoittamassa raportissa, joka paljastaa unionin sirutavoitteita uhkaavat rakenteelliset haavoittuvuudet.

ASML:n osakkeet nousivat yli 3,5 % torstaina 25. kesäkuuta Euroopan aamupäivän kaupankäynnissä, kun laajempi teknologiaralli pyyhki mantereen yli Micron Technologyn vahvojen neljännesvuositulosten seurauksena. Tulokset vahvistivat sijoittajien luottamusta tekoälyvetoiseen sirukysyntään.

ASML Holding on kategorisesti kiistänyt koskaan toimittaneensa äärimmäisen ultraviolettilitografian konetta Kiinaan, vastustaen Yhdysvaltain kauppaministeri Howard Lutnickin esittämiä huolia siitä, että rajoitettuja laitteita on saattanut päätyä Kiinaan vientivalvontaa rikkoen. Vastakkainasettelu lisäsi tiistaina laajempaa puolijohdealan myyntiaaltoa, mikä laski ASML:n osakkeita yli 7…

Yhdysvaltain kauppaministeri Howard Lutnick on nostanut suoraan ASML:n johdon kanssa esiin huolen siitä, että yksi hollantilaisyrityksen äärimmäisen ultraviolettivalon (EUV) litografiakoneista – maailman edistyneimmistä sirunvalmistustyökaluista – on saattanut päätyä Kiinaan Yhdysvaltojen johtamien vientirajoitusten vastaisesti, kertoo Bloomberg News.

ASML:n toimitusjohtaja Christophe Fouquet varoitti keskiviikkona, että sirulaitevalmistajan on varauduttava toimitusrajoituksiin valmistautuessaan palvelemaan massiivisia uusia hankkeita, kuten Elon Muskin Terafabia, Texasin suunniteltua puolijohdemegatehdasta.

ASML, TSMC Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited ja belgialainen tutkimuskeskus Imec ovat yhdessä osoittaneet valmistusyhteensopivan integraatioprosessin transistoreille, jotka on rakennettu kaksiulotteisista materiaaleista teollisuusstandardin mukaisilla 300mm kiekoilla, saavuttaen jopa 50 nanometrin kontaktivälit. Tulokset, jotka esiteltiin vuoden 2026 VLSI Technology and Circuits…