ASML, TSMC og imec ná 2D-smára á 300mm skífum

ASML ↗ 2.58%, TSMC Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited ↗ 2.81% og belgíska rannsóknarmiðstöðin Imec hafa sameiginlega sýnt fram á framleiðslusamhæft samþættingarferli fyrir smára byggða úr tvívíðum efnum á 300mm skífum sem eru staðlaðar í iðnaði, og náðu snertibili allt niður í 50 nanómetra. Niðurstöðurnar, sem kynntar voru á VLSI Technology and Circuits ráðstefnunni 2026 í Honolulu, Hawaii, marka í fyrsta sinn sem EUV-ljóslitun hefur verið notuð til að mynda 2D-efnasmára í svo árásargjarnum stærðum í fullu 300mm framleiðsluumhverfi.techpowerup+2

Leið handan kísils

Samstarfið framleiddi bæði n-gerð og p-gerð smára með því að nota umskiptamálm-díkalcogeníð rásir — mólýbden-dí-súlfíð fyrir NMOS og tungsten-dí-seleníð fyrir PMOS — sem voru framleiddir hlið við hlið á sömu skífunni. Tækin náðu virkri breidd niður í 75 nanómetra og samsvarandi oxíðþykkt um það bil 2 nanómetra. Quasi-CMOS samþætting náðist með flutningsaðferð fyrir flís eða litla skífu sem setti bæði rásarefnin á eitt undirlag.imec-int+1

Tvívíð efni hafa lengi verið rannsökuð sem hugsanlegir arftakar kísilrása í háþróuðum smárum vegna þess að atómþunn lög þeirra gætu gert kleift að ná betri rafstöðueiginleikastýringu á undir-nanómetra skala. Hins vegar hefur það verið helsta áskorunin að flytja niðurstöður úr rannsóknarstofu yfir á skífur í framleiðslustærð með staðalbúnaði.eenewseurope+1

Byggt á ára samstarfi

Sýningin byggir á vinnu sem kynnt var á IEDM í desember 2025, þar sem Imec greindi frá WSe₂-undirstöðu p-gerð smárum með metárangri sem þróaðir voru í samstarfi við TSMC, ásamt 300mm-samhæfðum vinnslueiningum sem þróaðar voru í samstarfi við Intel. Sú fyrri viðleitni sýndi hámarks drifstrauma allt að 690 míkróamper á míkrómetra með því að nota vinnsluflæði sem er samhæft við verksmiðjur.belganewsagency+2

Samkvæmt fréttatilkynningu Imec færir nýjasta verkið "iðnaðartilbúna 2D-efnasmára nær" með því að sameina EUV-myndunargetu frá ASML við framleiðsluþekkingu TSMC og 300mm tilraunalínuinnviði Imec.imec-int

Samhengi í iðnaði

Tilkynningin kemur í kjölfar mikillar viðleitni innan hálfleiðaraiðnaðarins til að undirbúa tækni eftir kísilöld fyrir hugsanlega framleiðslu. Á sömu VLSI-ráðstefnu kynnti Samsung sína árásargjarnustu CFET-arkitektúr, Intel upplýsti um frammistöðubætur á 18A-tækni sinni og TSMC afhjúpaði A16-vettvang sinn með aflgjafa að aftan sem áætlaður er í fjöldaframleiðslu á fjórða ársfjórðungi 2026. Vinna við 2D-efni, þó hún sé á fyrri stigum í þróunaráætluninni, gefur til kynna að vistkerfi ljóslitunartækja, efna og samþættingartækni sem þarf fyrir framtíðar framleiðslubreytingar sé farið að mótast.vlsisymposium